采用直流和直流脈沖電源對(duì)AZ91D鎂合金進(jìn)行微弧氧化處理,得到具有相同厚度的氧化膜,通 過(guò)顯微硬度測(cè)定,掃描電鏡觀(guān)察和極化曲線(xiàn)測(cè)試等手段研究了不同電源對(duì)微弧氧化膜層性能的影響.結(jié)果表明:直流電源下膜層的生長(zhǎng)速率大于脈沖直流電源下的; 用不同電源處理得到的氧化膜,硬度基本相同;脈沖直流電源下氧化膜的表面形貌,耐蝕性好于直流電源下的,高頻下氧化膜的表面形貌,耐蝕性?xún)?yōu)于低頻下的氧化膜。
